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Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-2

簡要描述:Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-2
具有ø10 mm透明光圈的電動可變衰減器,可以連續(xù)改變出射的s-pol和p-pol光束的強度比。 衰減器由薄膜偏振片,高性能波片和精密光機械組成。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-19
  • 訪  問  量:1074

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-2

990-0071M


Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-2

具有ø10 mm透明光圈的電動可變衰減器,可以連續(xù)改變出射的s-pol和p-pol光束的強度比。 衰減器由薄膜偏振片,高性能波片和精密光機械組成。

產(chǎn)品介紹

這款電動可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計的,用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中,該偏振片在56°時反射S偏振光,同時透射P偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉(zhuǎn)平臺960-0161中??梢酝ㄟ^旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數(shù)。

可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°,并獲得較大的偏振對比度。

 

注意:控制器和電源應(yīng)單獨訂購。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

適用于Nd:YAG激光應(yīng)用

型號

波長

激光損傷閾值

配置

990-0071-355M

355 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

without controller & power supply

990-0071-355M+CP

355 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

with controller & power supply

990-0071-532M

532 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

without controller & power supply

990-0071-532M+CP

532 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

with controller & power supply

990-0071-1064M

1064 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

without controller & power supply

990-0071-1064M+CP

1064 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

 
    

飛秒應(yīng)用

型號

波長

激光損傷閾值

配置

990-0071-257M

257 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-257M+CP

257 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-266M

266 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-266M+CP

266 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-343M

343 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-343M+CP

343 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400M

400 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400M+CP

400 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400BM

390-410 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400BM+CP

390-410 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515M

515 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515M+CP

515 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515BM

505-525 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515BM+CP

505-525 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800M

800 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800M+CP

800 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800BM

780-820 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800BM+CP

780-820 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030M

1030 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030M+CP

1030 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030BM

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030BM+CP

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

適用于高功率飛秒應(yīng)用

型號

波長

激光損傷閾值

配置

990-0071-257HM

257 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-257HM+CP

257 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-266HM

266 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-266HM+CP

266 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-343HM

343 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-343HM+CP

343 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400HM

400 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400HM+CP

400 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-400HBM

390-410 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-400HBM+CP

390-410 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515HM

515 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515HM+CP

515 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-515HBM

505-525 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-515HBM+CP

505-525 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800HM

800 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800HM+CP

800 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-800HBM

780-820

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-800HBM+CP

780-820

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030HM

1030 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030HM+CP

1030 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

990-0071-1030HBM

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

without controller & power supply

990-0071-1030HBM+CP

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

with controller & power supply

適用于Nd:YAG激光應(yīng)用

通光孔徑

10 mm

損害閾值

5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振比

>1:200

 

飛秒應(yīng)用

通光孔徑

10 mm

損害閾值

大功率激光應(yīng)用:

>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical

時間分散

t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses

偏振比

>1:200

這款電動可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計的,用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中,該偏振片在56°時反射S偏振光,同時透射P偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉(zhuǎn)平臺960-0161中??梢酝ㄟ^旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數(shù)。

可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°,并獲得較大的偏振對比度。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。 

這款電動可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計的,用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中,該偏振片在56°時反射S偏振光,同時透射P偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉(zhuǎn)平臺960-0161中??梢酝ㄟ^旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數(shù)。

可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°,并獲得較大的偏振對比度。

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